ビーム露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：土屋勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-276769
公開番号（公開出願番号）：特開平5-090146
出願日： 1991年09月27日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：

【要約】【目的】複数の半導体チップ等を同時に露光可能にして、半導体ウェハ等を短時間で露光可能にする。【構成】ビーム露光装置11は各々がビーム14を射出する理論収率数のビーム銃13を有しており、ビーム銃13は通過口18を有する遮蔽体17に覆われている。通過口18を通過しハーフミラー23で反射されたビーム14のみが、偏向装置21で偏向されて、半導体ウェハ15の半導体チップ16に入射する。このため、各々の偏向装置21で偏向された別個のビーム14によって、理論収率数の半導体チップ16を同時に露光させることができる。

請求項（抜粋）：

各々がビームを射出する複数のビーム銃と、これら複数のビーム銃に対応する複数の通過口を有しており、これら複数の通過口以外の部分に入射した前記ビームを遮蔽する遮蔽体と、前記複数の通過口に対応しており、これら複数の通過口を通過した前記ビームを偏向させるための複数の偏向手段とを具備するビーム露光装置。

FI (3件)：

H01L 21/30 341 W , H01L 21/30 341 B , H01L 21/30 341 D

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