特許

J-GLOBAL ID：200903061735544262

フッ素エキシマレーザーリソグラフィー用ペリクル

発明者： 白崎 亨
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-116046
公開番号（公開出願番号）：特開2000-305255
出願日： 1999年04月23日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 フッ素エキシマレーザー(波長:158nm )に対して光透過率が高く、実用に耐え得る耐光性を有するリソグラフィー用ペリクル。【解決手段】 70〜100 モル%のパーフルオロ-2,2- ジメチル-1,3- ジオキソールを含有する含フッ素ラジカル重合性モノマー混合物を共重合してなる非晶質フッ素系共重合体をペリクル膜原料とするフッ素エキシマレーザーリソグラフィー用ペリクル。

請求項（抜粋）：

70〜100 モル%のパーフルオロ-2,2- ジメチル-1,3- ジオキソールを含有する含フッ素ラジカル重合性モノマー混合物を共重合してなる非晶質フッ素系共重合体をペリクル膜原料とするフッ素エキシマレーザーリソグラフィー用ペリクル。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  C08F234/02 ,  C08F214:18

FI (2件)：

G03F 1/14 J ,  C08F234/02

Fターム (12件)：

2H095BA07 ,  2H095BC33 ,  4J100AC22Q ,  4J100AC25Q ,  4J100AC26Q ,  4J100AC27Q ,  4J100AR32P ,  4J100BB11P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA62 ,  4J100JA32

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-174450
  
• 特開平3-067262
  
• 特開平3-174450
  
• 特開平3-067262