特許
J-GLOBAL ID：200903061742786174
基板の乾燥装置および乾燥方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-116446
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307504
出願日： 1998年04月27日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】 基板の周縁部に水滴が残存するのを防止する。【解決手段】 シンク11内に水槽12を設け、水槽12の側部にレベルセンサ14を設け、水槽12の下部に純水供給ポート15を設け、水槽12の下部に排水ポート16を設け、水槽12内に簀子状の支持板17を設け、支持板17に4本の足18を取り付け、足18を水槽12の底に載置し、支持板17に固定受台19を取り付け、リフタ昇降装置(図示せず)により昇降されるリフタ20に連結板21を取り付け、連結板21に可動受台22を取り付け、連結板21にナイフエッジ23を取り付け、実線で示す位置から二点鎖線で示す位置に移動可能なガス供給管25を設け、ガス供給管25にガス吹出管26を取り付ける。
請求項（抜粋）：
水槽と、上記水槽に設けられた純水供給ポートと、上記水槽に設けられた排水ポートと、上記水槽の近傍部に設けられたガス吹出管とを有する基板の乾燥装置において、上記水槽内に固定受台を設け、上記水槽内に連結板を設け、上記連結板を昇降する連結板昇降手段を設け、上記連結板に可動受台を取り付けたことを特徴とする基板の乾燥装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 651
, H01L 21/304
H01L 21/304 651 H
, H01L 21/304 651 J
