特許
J-GLOBAL ID:200903061749930726
付加断片化剤の存在での、熱-及び光開始ラジカル重合
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
津国 肇 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-566311
公開番号(公開出願番号):特表2002-523529
出願日: 1999年08月10日
公開日(公表日): 2002年07月30日
要約:
【要約】本発明は、a)エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーの少なくとも1種、b)加熱又は305nm〜450nmの(UV)光の照射により遊離基を生成する遊離基開始剤、及びc)式(Ia)、(Ib)又は(Ic)(式中、Yは、ミカエル付加に対して二重結合を活性化する基であり;Xは、ハロゲン又は1〜12個の炭素原子のモノカルボン酸、若しくは錯体酸のアニオンであり;nは、0又は1であり;R1、R2及びR3は、互いに独立して、水素、非置換C1-C18アルキル、C3-C18アルキル(少なくとも1個の窒素又は酸素原子により中断されている)、C3-C18アルケニル、C3-C18アルキニル、C7-C9フェニルアルキル、C3-C12シクロアルキル若しくはC3-C12シクロアルキル(少なくとも1個の窒素又は酸素原子を含む);あるいはC1-C18アルキル若しくはC3-C18アルキル(少なくとも1個の窒素又は酸素原子により中断されている)、C3-C18アルケニル、C3-C18アルキニル、C7-C9フェニルアルキル、C3-C12シクロアルキル若しくはC3-C12シクロアルキル(少なくとも1個の窒素又は酸素原子を含む)、これらは、NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1-C4アルコキシ、C1-C4アルキルチオ、C1-C4アルキルアミノ、C1-C4アルキルアミノ、ジ(C1-C4アルキル)アミノにより置換されているか又は基-O-C(O)-C1-C18アルキルにより置換されており;あるいはフェニル、ナフチル、これらは、非置換又はC1-C4アルキル、C1-C4アルコキシ、C1-C4アルキルチオ、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1-C4アルキルアミノ若しくはジ(C1-C4アルキル)アミノで置換されており;あるいはR1とR2は、結合するヘテロ原子と一緒になって、C3-C12ヘテロシクロアルキル基であるか;あるいはR1とR2は、式(a)又は式(b)の基を形成するか、又はR1、R2及びR3は、式(c)又は(d)の基を形成する)の化合物を含む組成物に関する。更に、本発明の特徴は、重合方法、その方法での式(Ia)、(Ib)又は(Ic)の化合物の使用、該方法により得ることができる方法及び付加断片化剤として有用な新規化合物である。
請求項(抜粋):
a)エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーの少なくとも1種、b)加熱又は305nm〜450nmの(UV)光の照射により遊離基を生成する遊離基開始剤、及びc)式(Ia)、(Ib)又は(Ic):【化1】(式中、 Yは、ミカエル付加に対して二重結合を活性化する基であり; Xは、ハロゲン又は1〜12個の炭素原子のモノカルボン酸、一価のオキソ酸若しくは錯体酸のアニオンであり; nは、0又は1であり;R1、R2及びR3は、互いに独立して、水素、非置換C1-C18アルキル、C3-C18アルキル(少なくとも1個の窒素又は酸素原子により中断されている)、C3-C18アルケニル、C3-C18アルキニル、C7-C9フェニルアルキル、C3-C12シクロアルキル若しくはC3-C12シクロアルキル(少なくとも1個の窒素又は酸素原子を含む);あるいはC1-C18アルキル若しくはC3-C18アルキル(少なくとも1個の窒素又は酸素原子により中断されている)、C3-C18アルケニル、C3-C18アルキニル、C7-C9フェニルアルキル、C3-C12シクロアルキル若しくはC3-C12シクロアルキル(少なくとも1個の窒素又は酸素原子を含む)、これらは、NO2、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、C1-C4アルコキシ、C1-C4アルキルチオ、C1-C4アルキルアミノ、C1-C4アルキルアミノ、ジ(C1-C4アルキル)アミノにより置換されているか又は基-O-C(O)-C1-C18アルキルにより置換されており;あるいはフェニル、ナフチル(これらは、非置換又はC1-C4アルキル、C1-C4アルコキシ、C1-C4アルキルチオ、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、C1-C4アルキルアミノ若しくはジ(C1-C4アルキル)アミノであるか;あるいは R1とR2は、結合するヘテロ原子と一緒になって、C3-C12ヘテロシクロアルキル基を形成するか;あるいは R1とR2は、下記式:【化2】の基のいずれかを形成するか、又はR1、R2及びR3は、下記式:【化3】の基のいずれかを形成する)の化合物を含む組成物。
IPC (12件):
C08F 2/38
, C07C211/63
, C07C219/06
, C07C255/30
, C07D213/20
, C07D233/58
, C07D295/02
, C07D333/46
, C07D487/04 144
, C07F 5/02
, C07F 9/54
, C08F 2/48
FI (12件):
C08F 2/38
, C07C211/63
, C07C219/06
, C07C255/30
, C07D213/20
, C07D233/58
, C07D295/02 Z
, C07D333/46
, C07D487/04 144
, C07F 5/02 D
, C07F 9/54
, C08F 2/48
Fターム (39件):
4C050AA01
, 4C050BB04
, 4C050CC08
, 4C050EE02
, 4C050FF01
, 4C050GG01
, 4C050HH01
, 4C055AA04
, 4C055BA01
, 4C055CA01
, 4C055DA01
, 4C055GA01
, 4H006AA01
, 4H006AB81
, 4H048AA01
, 4H048AB40
, 4H048VA30
, 4H048VA75
, 4H050AB40
, 4J011AA01
, 4J011AC04
, 4J011BA01
, 4J011DA03
, 4J011DA04
, 4J011HA02
, 4J011HA03
, 4J011HA04
, 4J011HB02
, 4J011JB02
, 4J011NA13
, 4J011NA26
, 4J011NA27
, 4J011NB04
, 4J011QA03
, 4J011QA09
, 4J011QA34
, 4J011QA37
, 4J011QA38
, 4J011UA01
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