特許

J-GLOBAL ID：200903061768248022

テトラアルキルオニウム テトラキス(ペンタフロロフェニル)ボレートの製造方法

発明者： 宇恵 誠 ,  関川 佐千江 ,  武田 政幸
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-260540
公開番号（公開出願番号）：特開平8-119973
出願日： 1994年10月25日
公開日（公表日）： 1996年05月14日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 三級アンモニウム テトラキス(ペンタフロロフェニル)ボレートに水酸化テトラアルキルオニウムを反応させた後、生成する三級アミンを蒸留により除去して一般式(III) のテトラアルキルオニウム テトラキス(ペンタフロロフェニル)ボレートを製造する方法。〔Xは窒素または燐原子、R4、R5、R6およびR7は独立してC1〜4の低級アルキル基を表す〕【効果】 三級アンモニウム テトラキス(ペンタフロロフェニル)ボレートから、イオン交換樹脂を用いてプロトン体に変換することなく、一段階で水酸化テトラアルキルオニウムと反応させてテトラアルキルオニウム テトラキス(ペンタフロロフェニル)ボレートを製造できる。

請求項（抜粋）：

下記式(I)で示される三級アンモニウム テトラキス(ペンタフロロフェニル)ボレートに下記式(II)で示される水酸化テトラアルキルオニウムを反応させた後、生成する三級アミンを蒸留により除去して下記式(III)で示されるテトラアルキルオニウム テトラキス(ペンタフロロフェニル)ボレートを製造する方法。【化1】【化2】【化3】[式中、Xは窒素原子または燐原子、R1 、R2 およびR3 はそれぞれ独立して炭素数1〜4の低級アルキル基またはフェニル基を表し、R4 、R5 、R6 およびR7 はそれぞれ独立して炭素数1〜4の低級アルキル基を表す]

IPC (4件)：

C07F 5/02 ,  C07C209/20 ,  C07C211/63 ,  C07F 9/54