薄膜成膜装置および薄膜成膜方法

発明者：
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-370032
公開番号（公開出願番号）：特開2002-173782
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【課題】比較的簡易な設備構成により高分子系材料による成膜材料の基板上における塗り分けが可能であり、成膜材料の利用効率の向上が図れる薄膜成膜装置および薄膜成膜方法を提供する。【解決手段】この薄膜成膜装置では、成膜用の高分子系の材料を含む溶液27(あるいは材料液体)が超音波加振されて霧化させて基板1上に堆積される。超音波振動素子5による成膜用の霧29の生成およびその基板1上への堆積が、チャンバ3の密閉空間21内において行われ、密閉空間21の内壁に付着した溶液27が溶液溜まり部25に重力により導かれて再利用される。基板設置部23には、成膜用の霧の濃度が飽和状態に達するまで基板1を蒸気29から隔離するためのシャッタ7が設けられている。

請求項（抜粋）：

成膜用の高分子系の材料液体、または成膜用の高分子系の材料を含む溶液を超音波加振して霧化させて成膜用の霧を生成する超音波加振手段と、その内部で収容された基板に、前記超音波加振手段によって生成された前記成膜用の霧が堆積されるチャンバと、を備えることを特徴とする薄膜成膜装置。

IPC (4件)：

C23C 26/00 , B05B 17/06 , B05D 1/02 , B05D 3/12

FI (4件)：

C23C 26/00 Z , B05B 17/06 , B05D 1/02 Z , B05D 3/12 F

Fターム (18件)：

4D074AA01 , 4D074BB05 , 4D074DD03 , 4D074DD05 , 4D075AA72 , 4D075AA76 , 4D075AA83 , 4D075BB13Y , 4D075BB91Y , 4K044AA12 , 4K044AB02 , 4K044BA21 , 4K044BB01 , 4K044BB10 , 4K044BC14 , 4K044CA53 , 4K044CA55 , 4K044CA71

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