特許
J-GLOBAL ID：200903061772105058

蛍光X線分析装置及び蛍光X線分析方法

発明者：
山本 恭之

山本 恭之 について

, 
横山 雄一

横山 雄一 について


出願人/特許権者：
ティーディーケイ株式会社

ティーディーケイ株式会社 について


代理人 (1件)： 三澤 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-273020
公開番号（公開出願番号）：特開2002-082075
出願日： 2000年09月08日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、分析面形状を測定して、蛍光X線分析における分析精度を高める蛍光X線分析方法及び蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】 予め分析面の形状により蛍光X線強度がどのように変化するのかを形状の関数で補正できるように準備された蛍光X線分析装置において、光学式又は触針式変位測定装置で分析面形状を測定し、その形状に基づいて強度変化を推定し、補正した後、補正X線強度で蛍光X線分析を行う。
請求項（抜粋）：
試料の分析面の形状の測定に基づいて、前記試料の蛍光X線分析を行う蛍光X線分析装置であって、前記試料の蛍光X線強度を検出する検出手段と、前記試料の分析面の形状を測定する分析面形状測定手段と、前記分析面形状測定手段での測定結果に基づき、前記蛍光X線強度を補正演算する補正演算手段と、を含むことを特徴とする蛍光X線分析装置。
IPC (2件)：
G01N 23/223 ,  G01B 15/00
FI (2件)：
G01N 23/223 ,  G01B 15/00 A
Fターム (20件)：
2F067AA07 ,  2F067AA23 ,  2F067FF13 ,  2F067HH04 ,  2F067JJ03 ,  2F067KK01 ,  2F067TT01 ,  2F067UU33 ,  2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001EA03 ,  2G001FA06 ,  2G001FA14 ,  2G001GA08 ,  2G001HA01 ,  2G001JA13 ,  2G001KA01 ,  2G001MA04 ,  2G001RA03
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開昭59-077308
  • 蛍光X線分析装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-370930   出願人：株式会社島津製作所
  • 特開平1-242908

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