特許

J-GLOBAL ID：200903061773620827

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： 山華 雅司 ,  新村 忠 ,  井柳 克
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-129703
公開番号（公開出願番号）：特開2002-329709
出願日： 2001年04月26日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：

【要約】【課題】 被処理物の処理速度の面内分布に偏りが無く、処理速度の均一性が高いプラズマ装置を提供すること。【解決手段】 誘電体窓2を、一方の面が同軸変換テンテナ4に接統している誘電体板13a、21a、23a、24a、25aと、この誘電体板13a、21a、23a、24a、25aの他方の面に接し、かつ、誘電体窓2の中心に対して軸対称の形状に形成されている導電性の平板部材14、14a、14b、14c、22a、22b、22c、22dとで形成する。

請求項（抜粋）：

マイクロ波を同軸変換アンテナから誘電体窓を介してチャンバ内に導入してプラズマを生成し、被処理物に所定の処理を施すプラズマ処理装置において、前記誘電体窓は、前記同軸変換アンテナと接する誘電体板と、この誘電体板の他方の面設けられ、前記誘電体板の中心に対して軸対称の形状に形成されている導電性の平板部材とを有していることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

B01J 19/08 H ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B

Fターム (35件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA06 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075EA07 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075FA12 ,  4G075FA20 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06 ,  4G075FC15 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB32 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004DA26 ,  5F045AA09 ,  5F045AB32 ,  5F045BB02 ,  5F045CA15 ,  5F045DP04 ,  5F045EB02 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH19