特許

J-GLOBAL ID：200903061776071131

フォトレジスト膜の除去方法

発明者： 関 斎 ,  関谷 あかね ,  岩崎 千里 ,  笠間 泰彦 ,  大見 忠弘
出願人/特許権者： 株式会社フロンテック ,  大見 忠弘
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-162003
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029989
出願日： 1994年07月14日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、フォトレジストの除去能力が高く、かつ安全性、作業性等の取扱い性に優れたフォトレジスト膜の除去方法を提供することを目的とする。【構成】 無機系水溶液中で、紫外線を照射しながらフォトレジスト膜を化学分解させて除去することを特徴とする。前記無機系水溶液は、ペルオキソ1硫酸塩化合物の水溶液であり、あるいは、硫酸を4.5〜36wt%及び過酸化水素を0.05〜0.8wt%を含む水溶液であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

無機系水溶液中で、紫外線を照射しながらフォトレジスト膜を化学分解させて除去することを特徴とするフォトレジスト膜の除去方法。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-223838
  
• 特開昭62-226153