特許

J-GLOBAL ID：200903061783551890

ホトマスクの洗浄方法及びその洗浄用治具

発明者： 平良 正明
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 清水 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-113276
公開番号（公開出願番号）：特開平10-308337
出願日： 1997年05月01日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：

【要約】【課題】 マスクの表面(パターン面)に貼られているペリクルを剥がすことなく、しかも汚すことなくマスクの裏面のみを洗浄し、汚れ(くもり等)を除去することができるホトマスクの洗浄方法及びその洗浄用治具を提供する。【解決手段】 洗浄用治具21は空洞Aを有する四角形状の枠体22をなし、その内周部にペリクル付マスク10の保持部となる段部23が形成されて、この段部23でペリクル12を下方にしたペリクル付マスク10を密封状態に保持する。そこで、ノズル15から洗浄液16をペリクル付マスク10の裏面(ガラス部)に吹き付けるとともに、スピナ洗浄装置25を回転させて、洗浄を行う。

請求項（抜粋）：

半導体製造用ホトマスク基板にペリクルを装着し、該ペリクル装着面と反対側の裏面の汚れを洗浄するホトマスクの洗浄方法において、(a)前記ホトマスク基板のペリクル装着面側の外周部に当接して密封可能な洗浄用治具で前記ホトマスク基板の裏面を露出した状態で固定し、(b)前記ホトマスク基板の裏面に洗浄用溶液を作用させ、前記ホトマスク基板の裏面の洗浄を行うようにしたことを特徴とするホトマスクの洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (5件)：

H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/30 502 P