特許

J-GLOBAL ID：200903061786023895

堆積膜形成装置及びそれに用いられる電極

発明者： 青池 達行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-328719
公開番号（公開出願番号）：特開平8-232070
出願日： 1995年12月18日
公開日（公表日）： 1996年09月10日
要約：

【要約】【課題】 構造欠陥の少ない堆積膜を形成可能で、かつ画像特性に優れた電子写真用光受容部材作製用に用いて好適な堆積膜形成装置及びそれに用いられる電極を提供すること。【解決手段】 減圧可能な反応容器内に基体を配置し、原料ガスを前記基体を配置した反応容器内に導入する手段と、高周波電力を前記基体を配置した反応容器内に導入する手段とを有し、該高周波電力によって前記原料ガスを分解することにより、前記基体上に堆積膜を形成することが可能な堆積膜形成装置において、電極としての前記高周波電力導入手段の導入部が複数の材料の部材で構成された堆積膜形成装置及びそれに用いられる電極を提供することによって課題を解決した。

請求項（抜粋）：

減圧可能な反応容器内に基体を配置し、原料ガスを前記基体を配置した反応容器内に導入する手段と、高周波電力を前記基体を配置した反応容器内に導入する手段とを有し、該高周波電力によって前記原料ガスを分解することにより、前記基体上に堆積膜を形成することが可能な堆積膜形成装置において、電極としての前記高周波電力導入手段の導入部が複数の部材からなることを特徴とする堆積膜形成装置。

IPC (4件)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/50 ,  G03G 5/08 360 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

C23C 16/44 J ,  C23C 16/50 ,  G03G 5/08 360 ,  H01L 21/205