特許
J-GLOBAL ID：200903061788995703
真空処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡部 敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-374045
公開番号（公開出願番号）：特開2003-174016
出願日： 2001年12月07日
公開日（公表日）： 2003年06月20日
要約：
【要約】【課題】 必要な冷媒の容量・種類を削減することができる処理装置を提供する。【解決手段】 真空処理装置100は、被処理体Wを載置するアルミニウム製のサセプタ104、及び被処理体Wの直下近傍に配設され、且つサセプタ104の熱を吸収する冷媒が流れる冷媒用通路111を有する真空容器室101と、一端が冷媒用通路111の入口に接続され、他端が冷媒用通路111の出口に接続されるU字状の冷媒回路114、冷媒回路114に封入されたプロパンガス、及び冷媒回路114中の熱を吸収したプロパンガスを膨張冷却するコンプレッサ115を有するチラー102とを備え、プロパンガスを冷媒回路114内で循環させる。
請求項（抜粋）：
被処理体を載置する載置台、及び該載置台に内蔵され、且つ前記被処理体を冷却する冷媒を流す冷却通路を有する真空容器室と、前記冷媒を冷却する冷却手段を有する冷却装置とを備える真空処理装置において、前記冷却通路と前記冷却手段とを直接連結し、前記冷却通路と前記冷却手段との間で前記冷媒を循環する循環手段を備えることを特徴とする真空処理装置。
Fターム (7件)：
5F004AA16
, 5F004BA04
, 5F004BB25
, 5F004BC02
, 5F004BC04
, 5F004BD03
, 5F004CA04
