特許
J-GLOBAL ID:200903061794866249

塗布装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西野 卓嗣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-006750
公開番号(公開出願番号):特開平6-169159
出願日: 1993年01月19日
公開日(公表日): 1994年06月14日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、容易にデータ設定が可能となると共に塗布剤の安定供給を可能とすることを目的とする。【構成】 塗布時間か塗布直径かのデータのうちいずれかが第1のデータ設定手段により設定されると、計算装置によりRAM(15)に記憶されている塗布時間と塗布直径との関係式を基に他方のデータが計算され、該計算結果が他方のデータの参考データとしてCRT(25)に表示される。
請求項(抜粋):
塗布ノズルを介してプリント基板に塗布剤を塗布する塗布装置に於いて、塗布剤の吐出時間と塗布直径との関係式を記憶する記憶装置と、前記吐出時間と塗布直径の各データを設定可能とする第1のデータ設定手段と、該設定手段により吐出時間か塗布直径かのデータのうちいずれかが設定されると他方のデータを前記記憶装置に記憶されている計算式から計算する計算装置と、該計算装置により計算された結果を他方のデータの参考データとして画面表示する表示装置とを設けたことを特徴とする塗布装置。
IPC (4件):
H05K 3/34 ,  B05C 5/00 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/00
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭58-164942

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