特許

J-GLOBAL ID：200903061808601251

半導体製造装置

発明者： 遠目塚 幸二 ,  平野 光浩 ,  丸林 哲也
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-061813
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242232
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】半導体製造装置の保守性を改善し、半導体製造装置の設置必要空間を小さくする。【解決手段】筐体60内の前面側よりカセットステージ65、カセット移載機66、カセット棚67、ウェーハ移載機68が少なくとも配置された半導体製造装置に於いて、筐体の前面が開放可能に構成されると共に前記カセットステージが一端を筐体の1側面近傍で回転可能に支持され、前記カセットステージが前方に回転し筐体前部を開放可能にし、前記カセット移載機の移載ステージが前記筐体の1側面近傍迄移動可能に設けられ、前記移載ステージ側方に保守用空間が形成される様にし、前記カセット棚を前記筐体の1側面近傍迄移動可能に設け、前記カセット棚の側方に保守用空間が形成される様にし、保守作業を前面側より行える様にした。

請求項（抜粋）：

筐体内の前面側よりカセットステージ、カセット移載機が少なくとも配置された半導体製造装置に於いて、筐体の前面が開放可能に構成されると共に前記カセットステージが一端を筐体の1側面近傍で回転可能に支持され、前記カセットステージが前方に回転し筐体前部を開放可能としたことを特徴とする半導体製造装置。