特許
J-GLOBAL ID：200903061809330995
揺動式ポリッシング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-350116
公開番号（公開出願番号）：特開平6-170724
出願日： 1992年12月04日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 回転定盤の研磨面に貼った研磨布の偏摩耗を防止すると共に、ウェーハを高精度にポリッシング加工できるようにした、揺動式ポリッシング装置を提供する。【構成】 研磨面に研磨布を貼った回転定盤に、トップリング5にてウェーハを押圧しながら回転させるポリッシング装置であって、トップリングを保持するスライド及び揺動可能なトップリング保持部1と、このトップリング保持部駆動する駆動源と、回転定盤を保持する揺動テーブル14と、この揺動テーブルを駆動する駆動源を有する。トップリングと回転定盤とを互いに別方向に、又は同一方向であってもトップリング保持部の中心と回転定盤の中心との間の距離が相対的に変動するように揺動させる。
請求項（抜粋）：
研磨面に研磨布を貼った回転定盤に、トップリングにてウェーハを押圧しながら回転させるポリッシング装置であって、前記トップリングを保持するスライド及び揺動可能なトップリング保持部と、このトップリング保持部を駆動する駆動源と、前記回転定盤を保持する揺動テーブルと、この揺動テーブルを駆動する駆動源を有し、前記トップリングと回転定盤とを互いに別方向に、又は同一方向であってもトップリング保持部の中心と回転定盤の中心との間の距離が相対的に変動するように揺動させることを特徴とする、揺動式ポリッシング装置。
IPC (2件)：
B24B 37/04
, H01L 21/304 321
