特許

J-GLOBAL ID：200903061824450450

化粧料

発明者： 竹内 賢 ,  吉野 浩二 ,  鈴木 裕二 ,  川俣 章
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-318128
公開番号（公開出願番号）：特開平7-187945
出願日： 1990年08月30日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】 式(1)【化1】(Qは二価の炭化水素基、R13及びR14はH又はC1〜C5の炭化水素基)で表わされる基であり、残りはC1〜C30の炭化水素基又は-X-R15(Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含む二価炭化水素基、R15はC1〜C30の炭化水素基)で表わされる基である。l、m及びnは0以上2000以下の数を示し、l+m+n=0のとき、R1 〜R3 、R10〜R12のうち少なくとも1つは基(2)である。ただし、R1 〜R12のうち少なくとも1つが、QがトリメチレンでR13及びR14が共に水素原子である基(2)であるとき、C1〜C30の炭化水素基の少なくとも1つは、C6〜C30の炭化水素基〕で表わされるシキロサン誘導体を含有する化粧料。【効果】 乳化安定性に優れたものである。

請求項（抜粋）：

次の一般式(1)【化1】(式中、Qは炭素数3〜20の二価炭化水素基を示し、R13及びR14はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基を示し、そのうち少なくとも一方は水素原子である。)で表わされる基であり、残りは炭素数1〜30の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基又は次式(3):【化2】-X-R15 (3)(式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含む二価炭化水素基を、R15は炭素数1〜30の直鎖又は分岐鎖の炭化水素基を示す。)で表わされる基である。l、m及びnは0以上2000以下の数を示し、l+m+n=0のとき、R1 〜R3 、R10〜R12のうち少なくとも1つは基(2)である。ただし、R1 〜R12のうち少なくとも1つが、QがトリメチレンでR13及びR14が共に水素原子である基(2)であるとき、前記炭素数1〜30の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基の少なくとも1つは、炭素数6〜30の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基である。〕で表わされるシロキサン誘導体を含有することを特徴とする化粧料。

IPC (6件)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  B01F 17/54 ,  C07F 7/18 ,  C08G 77/38 NUF ,  C08L 83/04 LRR