特許

J-GLOBAL ID：200903061830539071

ウェーハ載置台

発明者： 羽曽部 誠
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 望稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-053732
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263523
出願日： 1994年03月24日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】腐食、汚染等の原因となる反応性ガス、反応生成物、汚染物質等が漏れるのを防止することができ、特に、連続式常圧CVD装置用のSiCトレーに適用して有効なウェーハ載置台の提供。【構成】ウェーハ載置面と、上方に向かって拡径された上部開口部から貫通する貫通孔とを有する基台部材と、前記基台部材の下部に配置されるウェーハ突き上げピンと、ウェーハ支持面を有し、前記貫通孔の上部開口部の形状に対応して形成された貫通孔閉塞部と、該貫通孔閉塞部の下部に連設され、前記貫通孔に遊嵌された支持杆部とを有し、前記突き上げピンの先端が挿入される中空部が内設されたウェーハ支持部材と、が配設されてなるウェーハ載置台。

請求項（抜粋）：

上部平面に形成されたウェーハ載置面と、上方に向かって拡径された上部開口部から底部まで貫通する少なくとも3つの貫通孔とを有する基台部材と、前記少なくとも3つの貫通孔のそれぞれに対応して、前記基台部材の下部に配置されるウェーハ突き上げピンと、上部に平坦なウェーハ支持面を有し、前記貫通孔の上部開口部の形状に対応して上方に拡径して形成された貫通孔閉塞部と、該貫通孔閉塞部の下部に連設され、前記貫通孔に遊嵌された支持杆部とを有し、前記突き上げピンの先端が挿入される中空部が内設されたウェーハ支持部材と、が配設され、前記ウェーハ突き上げピンが上昇したときには、該ウェーハ突き上げピンの先端が前記中空部に挿入され、下部からウェーハ支持部材を上方に突き上げて、ウェーハ載置面上に載置されたウェーハをウェーハ支持部材のウェーハ支持面に載せて突き上げ、ウェーハ突き上げピンが下降しているときには貫通孔閉塞部の外周面と貫通孔の上部開口部の内面とが当接して貫通孔が閉塞されるようにしてなるウェーハ載置台。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205