特許
J-GLOBAL ID:200903061830893207
透明なガスバリア性積層フィルムおよびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-160445
公開番号(公開出願番号):特開2001-341225
出願日: 2000年05月30日
公開日(公表日): 2001年12月11日
要約:
【要約】【課題】基材フィルム原反の製造工程で表面に付着した塵埃、もしくは基材フィルムの帯電によって無機化合物層を蒸着する真空槽内で表面に引き付けられた塵埃による欠陥、基材フィルムに添加されている滑剤による欠陥、二次電子による無機化合物蒸着フィルムの帯電とそのア-ク放電による欠陥を防止できたガスバリアフィルムを提供することを目的とする。【解決手段】基材の少なくとも片面に、無機化合物層を設けてなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記無機化合物層が、透明導電性酸化物層とアルミニウム酸化物、珪素酸化物の何れか一方、もしくは両方からなるガスバリア層とを、基材表面に透明導電性酸化物層がくるように積層させたなガスバリア性積層フィルムを提供する
請求項(抜粋):
透明フィルムからなる基材の少なくとも片面に、無機化合物層を設けてなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記無機化合物層が、透明導電性酸化物層とガスバリア層とを、基材表面に透明導電性酸化物層がくるように積層させたものであることを特徴とする透明なガスバリア性積層フィルム。
IPC (3件):
B32B 9/00
, C23C 14/06
, H01B 5/14
FI (3件):
B32B 9/00 A
, C23C 14/06 P
, H01B 5/14 A
Fターム (48件):
4F100AA00B
, 4F100AA00C
, 4F100AA19C
, 4F100AA20C
, 4F100AA33B
, 4F100AK01A
, 4F100AK42A
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100BA13
, 4F100EH66B
, 4F100EH66C
, 4F100EH661
, 4F100EH662
, 4F100EJ591
, 4F100EJ592
, 4F100GB15
, 4F100GB23
, 4F100GB41
, 4F100GB66
, 4F100JD02C
, 4F100JG01B
, 4F100JG04B
, 4F100JN01A
, 4F100JN01B
, 4F100YY00B
, 4K029AA11
, 4K029BA43
, 4K029BA44
, 4K029BA45
, 4K029BA46
, 4K029BA47
, 4K029BA49
, 4K029BA50
, 4K029BB02
, 4K029BC00
, 4K029BC09
, 4K029CA01
, 4K029CA02
, 4K029CA05
, 4K029DB03
, 4K029DB05
, 5G307FA02
, 5G307FB01
, 5G307FC10
引用特許:
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