特許
J-GLOBAL ID:200903061834140262
窒素製造の膜/PSA-デオキソ法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-284115
公開番号(公開出願番号):特開平6-199505
出願日: 1993年10月20日
公開日(公表日): 1994年07月19日
要約:
【要約】【目的】 燃料の本質上完全な利用で空気から高純度窒素を製造する方法を提供する。【構成】 (a)原料空気を膜又は圧力スイング吸着装置系に供給してそこで分離し、(b)膜又は圧力スイング吸着装置系から残留酸素を含有する部分精製窒素流れと酸素に富む排出流れとを抜き出し、(c)部分精製窒素流れ中に存在する残留酸素を接触燃焼装置系においてデオキソ燃料と反応させ、この場合にデオキソ燃料の使用量は接触燃焼装置系に過剰酸素状態を維持する程にし、そして(d)接触燃焼装置系から約99.6%〜約99.99%の窒素純度を有する高純度窒素ガス流れを回収し、これによって酸素の本質上完全な除去が要求されないような用途に対して好適な高純度窒素をデオキソ燃料の本質上完全な利用で生成する。
請求項(抜粋):
空気から高純度窒素を製造する方法において、(a)原料空気を膜又は圧力スイング吸着装置系に供給してそこで分離し、(b)膜又は圧力スイング吸着装置系から残留酸素を含有する部分精製窒素流れと酸素に富む排出流れとを抜き出し、(c)部分精製窒素流れ中に存在する残留酸素を接触燃焼装置系においてデオキソ燃料と反応させ、この場合にデオキソ燃料の使用量は接触燃焼装置系に過剰酸素状態を維持する程にし、そして(d)接触燃焼装置系から約99.6%〜約99.99%の窒素純度を有する高純度窒素ガス流れを回収し、これによって酸素の本質上完全な除去が要求されないような用途に対して好適な高純度窒素をデオキソ燃料の本質上完全な利用で生成する、ことからなる高純度窒素ガスの製造法。
IPC (4件):
C01B 21/04
, B01D 53/04
, B01D 53/22
, B01J 19/14
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭60-166206
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特開昭54-088893
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特開平4-227815
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