特許

J-GLOBAL ID：200903061848756150

絶縁膜の被覆方法およびそれを用いた画像表示用ガラス基板

発明者： 安崎 利明 ,  荻野 悦男
出願人/特許権者： 日本板硝子株式会社
代理人 (1件)： 大野 精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-190436
公開番号（公開出願番号）：特開2000-026139
出願日： 1998年07月06日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：

【要約】【課題】 プラズマディスプレイやフィールドエミッションディスプレイ(FED)など、その製造に高温のプロセスがある画像表示装置に好適に用いられる絶縁性基板を安価に製造する方法を提供する。【解決手段】 ガラス板表面にSiO2、シリコン酸窒化物あるいは窒化シリコンのいずれかの絶縁膜を、シリコンをターゲットとする酸素または/および窒素との反応性スパッタリングにより多層となるように被覆する。多層に被覆された絶縁膜中の層の界面は、ガラス中から熱拡散してくるナトリウムイオンのトラップ面となり、絶縁膜表面へのナトリウムイオンの溶出量が著しく低減される。

請求項（抜粋）：

基板表面にSiO2、シリコン酸窒化物あるいは窒化シリコンのいずれかの絶縁膜を、減圧された雰囲気が調整できる真空装置内でシリコンをターゲットとする酸素または/および窒素との反応性スパッタリングにより多層となるように被覆することを特徴とする絶縁膜の被覆方法。

IPC (5件)：

C03C 17/34 ,  G02F 1/1333 505 ,  G09F 9/30 312 ,  H01J 5/08 ,  H01J 9/20

FI (5件)：

C03C 17/34 Z ,  G02F 1/1333 505 ,  G09F 9/30 312 Z ,  H01J 5/08 ,  H01J 9/20 A

Fターム (31件)：

2H090HA04 ,  2H090HB03X ,  2H090HB04X ,  2H090HC03 ,  2H090HC18 ,  2H090HD02 ,  2H090JB02 ,  2H090JD10 ,  4G059AA01 ,  4G059AA07 ,  4G059AC20 ,  4G059EA05 ,  4G059EA12 ,  4G059EB04 ,  4G059GA02 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12 ,  5C028AA10 ,  5C094AA31 ,  5C094AA43 ,  5C094AA46 ,  5C094BA31 ,  5C094BA32 ,  5C094BA43 ,  5C094DA13 ,  5C094EB02 ,  5C094FA02 ,  5C094FB02 ,  5C094FB15 ,  5C094GB10 ,  5C094JA08