特許

J-GLOBAL ID：200903061858312366

スケール防止剤

発明者： 飯村 晶 ,  木幡 賢二 ,  臼井 麗 ,  佐藤 茂
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-231311
公開番号（公開出願番号）：特開平10-057988
出願日： 1996年08月13日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：

【要約】【課題】冷却水系、ボイラ水系などで生成する各種スケールの付着防止に効果が大きく、特にシリカ系スケールの付着防止に対して極めて優れた効果を有するスケール防止剤を提供する。【解決手段】(I)カルボキシル基を有するオレフィン系モノマーと、一般式(II)で示されるポリオキシアルキレン基を有するビニル系モノマーとを必須成分とするコポリマー又はその塩を含有することを特徴とするスケール防止剤。【化1】(式中、R1は水素又はメチル基、R2はエチレン基、プロピレン基又はトリメチレン基、R3は水素、炭素数1〜3のアルキル基又はヒドロキシアルキル基、nは3〜30である。)

請求項（抜粋）：

(I)カルボキシル基を有するオレフィン系モノマーと、下記一般式(II)で示されるポリオキシアルキレン基を有するビニル系モノマーとを必須成分とするコポリマー又はその塩を含有することを特徴とするスケール防止剤。【化1】(ただし、式中、R1は水素又はメチル基であり、R2はエチレン基、プロピレン基又はトリメチレン基であり、R3は水素、炭素数1〜3のアルキル基又はヒドロキシアルキル基であり、nは3〜30である。)

IPC (2件)：

C02F 5/10 610 ,  C02F 5/00 620

FI (2件)：

C02F 5/10 610 Z ,  C02F 5/00 620 C