特許

J-GLOBAL ID：200903061879371109

露光方法及び露光装置

発明者： 古徳 顕一 ,  鵜澤 繁行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-041354
公開番号（公開出願番号）：特開2002-246291
出願日： 2001年02月19日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
要約：

【要約】【課題】 一つのパターンを分割してウエハにスキャン露光する場合に、精度良くパターンを形成する。【解決手段】 原版としてのマスク上のパターンをエキシマレーザ光などの露光光を用いて、感光基板としてのウエハ6上に転写するため該ウエハ6とマスクを同期制御してスキャン投影露光する露光方法であって、所定のパターン11等を複数に分割した各分割パターン(1),(2) 等毎に行ったショットを繋ぎ合わせて露光する場合に、各分割パターン(1),(2) 等は、パターン11等毎に必ず互いに同一の方向からスキャン露光されている。

請求項（抜粋）：

原版上のパターンをエキシマレーザ光などの露光光を用いて、感光基板上に転写するため前記基板と前記原版を同期制御してスキャン投影露光する露光方法において、所定のパターンを複数に分割した各分割パターン毎に行ったショットを繋ぎ合わせて露光する場合に、前記各分割パターンは、前記パターン毎に必ず互いに同一の方向からスキャン露光されていることを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/22

FI (3件)：

G03F 7/20 502 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 514 C

Fターム (7件)：

2H097AA03 ,  2H097AB09 ,  2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046DA30