特許
J-GLOBAL ID:200903061885634014
近紫外-可視域イメージング用ポジチブフォトレジスト系
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
頓宮 孝一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-207846
公開番号(公開出願番号):特開平5-249680
出願日: 1992年08月04日
公開日(公表日): 1993年09月28日
要約:
【要約】【目的】 ポジチブフォトレジストとそれを用いるフォトリソグラフィー法に関する。【構成】 このフォトレジストは、ポリマー性の成分として実質的に水および塩基に不溶性の、光に不安定な重合体と強酸を生成することのできる光酸発生剤を含んでいる。この光酸発生剤はN-ヒドロキシアミド、またはN-ヒドロキシイミドから導かれたスルホネートエステルである。このフォトレジスト組成物は適当な光増感剤をも含むものである。
請求項(抜粋):
a.(1) 実質的に水および塩基に不溶性であって、効率的な酸分解をうけてもとの重合体よりも高い極性と溶解性とを有する生成物を生ずるくり返しの懸垂基を有する光に不安定な重合体;(2) N-ヒドロキシアミドおよびN-ヒドロキシイミドから誘導されるスルホネートエステルからなる群より選ばれる、強酸を生成することのできる酸発生剤;および(3) 光増感剤;から構成されるフォトレジスト組成物を被着させ;b. 活性放射線に対してこのフォトレジスト組成物の一部を露光し;c. 水系のアルカリ性媒体によりフォトレジストを現像して露光されたフォトレジスト組成物をとり除くことからなるフォトリソグラフィーの方法。
IPC (3件):
G03F 7/039
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開昭60-260947
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特開昭52-030420
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特開昭49-007254
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特開平3-206458
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特開昭62-212646
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