特許
J-GLOBAL ID：200903061888014190
電気流体力学的イオン源、それを用いたフッ素イオンの放出方法、二次イオン質量分析装置、それを用いた質量分析方法、加工装置及びそれを用いた加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-011870
公開番号（公開出願番号）：特開平5-205680
出願日： 1992年01月27日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：
【要約】【目的】純粋にフッ素原子のみからなるフッ素イオンを放出することのできるEHDイオン源、それを用いたフッ素イオンビームの放出方法、このEHDイオン源を用いた二次イオン質量分析装置、加工装置及びこれらを用いた分析方法、加工方法を提供すること。【構成】イオン材料として、フッ化リチウム又はフッ化セシウム等のフッ素を含む化合物を保持するためのリザーバ、イオン材料を加熱にするための加熱手段、リザーバから供給される溶融状態の該イオン材料で表面が濡らされるエミッタ及びエミッタとの間に電界が与えられてエミッタ先端から上記イオン材料のフッ素イオンを引き出すための引出し電極からなることを特徴とする電気流体力学的イオン源と、これを用いた二次イオン質量分析装置、加工装置。
請求項（抜粋）：
イオン材料としてフッ素を含む化合物を保持するためのリザーバ、該イオン材料を加熱にするための加熱手段、該リザーバから供給される溶融状態の該イオン材料で表面が濡らされるエミッタ及び該エミッタとの間に電界が与えられて該エミッタ先端から上記イオン材料のフッ素イオンを引き出すための引出し電極からなることを特徴とする電気流体力学的イオン源。
IPC (2件)：
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