特許
J-GLOBAL ID：200903061891208680
パターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-352560
公開番号（公開出願番号）：特開平10-170960
出願日： 1996年12月16日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：
【要約】【課題】 アクティブマトリクス型の液晶表示装置におけるゲートライン等を形成する場合、エッチング液が経時的に劣化しても、ゲートライン等の幅方向両端部の傾斜をなだらかにすることができるようにする。【解決手段】 ガラス基板21上にゲートライン等形成用膜を設け、このゲートライン等形成用膜上にレジストパターン23を設け、このレジストパターン23をマスクとしてウエットエッチング、洗浄、乾燥を3回繰り返すことにより、下面側から上面側に向かうに従って漸次幅狭となったゲートライン25等を形成する。したがって、エッチング液が経時的に劣化しても、ゲートライン25等の幅方向両端部25aの傾斜をなだらかにすることができる。
請求項（抜粋）：
基板上にパターン形成用膜を設け、該パターン形成用膜上にレジストパターンを設け、該レジストパターンをマスクとしてウエットエッチング、洗浄、乾燥を複数回繰り返すことにより、下面側から上面側に向かうに従って漸次幅狭となったパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1343
, G09F 9/30 338
, H05K 3/06
G02F 1/136 500
, G02F 1/1343
, G09F 9/30 338
, H05K 3/06 A
