特許
J-GLOBAL ID：200903061896878802
光学装置および光ピツクアツプ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
牛久 健司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-246550
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062238
出願日： 1991年09月02日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：
【要約】【目的】 光ピックアップ装置において,円形の集光スポットを形成する。【構成】 光軸に垂直なX,Y方向で拡がり角の異なる発散光を出射する半導体レーザ11と,コリメート・レンズ12および対物レンズ13からなる集光光学系との間に,光軸に対して傾いて配置されたガラス板14,15を設ける。半導体レーザ11の発散する出射光は集光光学系によって光ディスク20上に集光される。光ディスク20からの反射光は集光光学系によって集光されながら,ガラス板14,15でそれぞれ反射され,光検出器21,22に受光される。光検出器21,22の出力信号に基づいて,データ読取信号,トラッキング・エラー信号およびフォーカシング・エラー信号が作成される。ガラス板14には,上記集光光学系により集光される光の断面における強度分布がその光軸に直交するX,Y方向でほぼ同じになるように透過する光の強度を制御する透過率分布が形成されている。
請求項（抜粋）：
光軸に垂直な2方向で拡がり角が異なる発散光を出射する発光素子,上記発光素子から出射される発散光を平行化または集光する光学系,および上記発光素子と上記光学系との間の上記発散光の光路上に,上記光学系の光軸に対して傾けて配置された透明板を備え,上記透明板は,上記光学系により平行化または集光される光の断面における強度分布がその光軸を中心とする同心円上でほぼ均一になるように,透過する光の強度を制御する透過率分布を有している,光学装置。
IPC (4件)：
G11B 7/135
, G02B 27/00
, G11B 7/09
, G11B 11/10
