リフロー半田付け装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：内田和男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-217166
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045751
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：

【要約】【目的】クリーム半田等から発生して不活性ガス中に含まれるフラックスガスを冷却することによって液化分離させて回収すると共に、リフロー半田付け装置の内部へのフラックスの付着を防止して残留フラックスによる基板の汚染をほとんどなくして基板の洗浄を容易化し、またリフロー半田付け装置内部の清掃を容易化し、また清掃の頻度を極めて低くすること及び構造が簡易で低コストの空冷式のラジェータを提供することである。【構成】ガス室の側壁に複数の冷却板を設けた空冷式のラジエータを配設して該ラジエータにリフロー半田付け装置の外部空気を送風装置によって吹き付けてラジエータを冷却し、不活性ガス中に含まれるフラックスガスを冷却して液化し、不活性ガスから分離させるようにした構成を特徴とする。

請求項（抜粋）：

電子部品を搭載した基板を搬送装置により搬送しながら不活性ガスを充満させたガス室内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、前記ガス室の側壁に配設され該ガス室の内外に熱伝導可能に構成された複数の冷却板を設けたラジエータと、該ラジエータの外側の前記冷却板にリフロー半田付け装置の外部空気を吹き付けて前記ラジエータを冷却する送風装置と、前記ガス室内の前記冷却板近傍の高温の不活性ガスが冷却されることにより液化された該不活性ガス中に含まれるフラックスを回収するフラックス回収装置とを備えたことを特徴とするリフロー半田付け装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭62-013264
特開昭59-166369

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