特許
J-GLOBAL ID：200903061905456894
デザインルール生成システムおよびそのプログラムを記録した記録媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-189044
公開番号（公開出願番号）：特開2001-014376
出願日： 1999年07月02日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：
【要約】【課題】 デザインルールを決定するまでの工程を自動化して、デザインルールの決定のための作業効率が高く、デザインルールの決定までに要する時間が短くて済むシステムを提供する。【解決手段】 ライン幅と、スペース幅で規定されたL/Sパターンを自動的に生成するL/Sパターン自動生成部1と、L/Sパターンに基づいて光学シミュレーションを行う光学シミュレーション部2と、光学シミュレーションの結果に基づいてレジストに形成されるパターンの寸法(仕上がり寸法)を予測する仕上がり予測部3と、仕上がり予測結果に基づいてL/Sマトリックスを作成するとともに、L/Sマトリックス作成のために使用されたデータをデータベースとして構築するL/Sマトリックスデータベース構築部4と、L/Sマトリックスからデザインルールを生成するデザインルール生成部5とを備える。
請求項（抜粋）：
(a)配線の幅および該配線間のスペースの幅の組み合わせで構成される配線パターンを自動的に生成する配線パターン自動生成部と、(b)前記配線パターンを被露光体に焼き付ける条件で光学シミュレーションを施し、前記被露光体上の露光光に関するデータを出力する光学シミュレーション部と、(c)前記露光光に関するデータに基づいて前記所定の被露光体上に形成される前記配線パターンの仕上がり寸法を予測する仕上がり予測部と、(d)前記(a)〜(c)の各部の動作を繰り返して得られる前記配線の幅および前記スペースの幅の組み合わせが異なる複数の前記配線パターンについての解像の可否をマトリックス形式のデータテーブルに記録し、前記仕上がりパターンの寸法が所定の条件を満たすか否かを判断し、前記所定の条件を満たす場合は前記配線パターンは解像可能、前記所定の条件を満たさない場合は前記配線パターンは解像不可能とし、前記配線パターンの解像の可否を、前記配線の幅および前記スペースの幅の組み合わせに対応させて前記データテーブルに記録する、マトリックスデータベース構築部と、(e)前記データテーブルに基づいて、解像可能な前記配線パターンの集合で構成される解像可能領域、あるいは解像不可能な前記配線パターンの集合で構成される解像不可能領域の範囲を規定することでデザインルールを生成するデザインルール生成部と、を備えるデザインルール生成システム。
IPC (3件)：
G06F 17/50
, G03F 1/08
, H01L 21/027
G06F 15/60 666 C
, G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 Z
2H095BB01
, 2H095BB31
, 5B046AA08
, 5B046BA04
, 5B046JA04
, 5B046KA05
, 5F046AA25
