特許
J-GLOBAL ID：200903061910409667

光電気集積装置の製造方法及び光電気集積装置

発明者：
鈴木 幸栄

鈴木 幸栄 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (2件)： 樺山 亨 ,  本多 章悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-207023
公開番号（公開出願番号）：特開2004-053659
出願日： 2002年07月16日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】この発明は、光導波路のコアに依存したクラッド層の凹凸によって、LSIや受光素子、発光素子のはんだバンプ強度のばらつきが見られるという課題を解決しようとするものである。【解決手段】この発明は、コア層24及びクラッド層23、25を有する光導波路15と、電気配線12、18とを備え、発光素子13と受光素子17との少なくとも一方の素子との間で電気信号の授受を行う集積回路11、19がはんだバンプ20により電気配線12、18に接続される光電気集積装置の製造方法であって、コア層24上部のクラッド層25を研磨して平坦化する工程と、この工程に引き続いてクラッド層25の研磨部分を洗浄する洗浄工程とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光信号が伝搬されるコア層及びクラッド層を有する光導波路と、電気信号が伝搬される電気配線とを備えcかつ、電気信号を光信号に変換するための発光素子と、光信号を電気信号に変換するための受光素子との少なくとも一方の素子を備え、この素子との間で電気信号の授受を行う集積回路がはんだバンプにより電気配線に接続される光電気集積装置の製造方法であって、前記コア層上部の前記クラッド層を研磨して平坦化する工程と、この工程に引き続いて前記クラッド層の研磨部分を洗浄する洗浄工程とを有することを特徴とする光電気集積装置の製造方法。
IPC (2件)：
G02B6/13 ,  G02B6/122
FI (2件)：
G02B6/12 M ,  G02B6/12 B
Fターム (11件)：
2H047KA04 ,  2H047MA07 ,  2H047PA02 ,  2H047PA05 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA02 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047QA07 ,  2H047TA11
引用特許：
審査官引用 (13件)
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