特許

J-GLOBAL ID：200903061911841015

ゼオライト膜及びその製造方法

発明者： 佐野 庸治 ,  河村 光隆 ,  水上 富士夫 ,  高谷 晴生 ,  毛利 隆 ,  戸井田 良晴 ,  稲岡 亘 ,  渡辺 正実 ,  栗林 宗孝
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  社団法人日本航空宇宙工業会 ,  東ソー株式会社 ,  石川島播磨重工業株式会社
代理人 (2件)： 絹谷 信雄 (外1名) ,  絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-120001
公開番号（公開出願番号）：特開平6-127937
出願日： 1991年05月24日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：

【要約】【目的】 多孔質基体等を用いることなくゼオライト膜を簡単に形成することを可能とする。【構成】 Al2 O3 及びSiO2 を含み、H2 OとSiO2 とのモル比が50以上の水和ゲルを、オートクレーブを用いて無撹拌下でかつ温度 100°C以上、 200°C未満で水熱合成することにより、一方の面と他方の面とのSiO2 /Al2 O3 比が異なるゼオライト単独の自立したゼオライト膜を得ることを特徴としている。

請求項（抜粋）：

一方の面と他方の面とのSiO2 /Al2 O3 比が異なることを特徴とするゼオライト膜。

IPC (4件)：

C01B 33/34 ,  B01D 71/02 ,  B01J 20/18 ,  B01J 20/28