特許

J-GLOBAL ID：200903061913849080

エチレン製造装置蒸留塔汚れ防止剤

発明者： 田中 浩一 ,  実守 健介
出願人/特許権者： 三菱油化株式会社 ,  栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-350147
公開番号（公開出願番号）：特開平5-156233
出願日： 1991年12月10日
公開日（公表日）： 1993年06月22日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】一般式(1)のニトロソフェノール系化合物を有効成分とするエチレン製造装置蒸留塔汚れ防止剤。(Rは水素又は炭素数1〜7のアルキル基である)【効果】本汚れ防止剤は、酸素が存在しない条件下で、非常に優れたジエン類に対する重合防止効果を有し、エチレン製造装置の蒸留工程における汚れ防止効果が顕著であるので加熱効率が向上し、連続的に運転することができるので、エチレン製造装置の生産効率を向上させることができる利点がある。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】(式中のRは水素又は炭素数1〜7のアルキル基である)で表されるニトロソフェノール系化合物を有効成分とするエチレン製造装置蒸留塔汚れ防止剤。

IPC (4件)：

C09K 3/00 112 ,  C07C 4/02 ,  C07C 11/04 ,  C10G 7/00