特許
J-GLOBAL ID：200903061918373173
コレステリック配列を有するポリマー材料からなるパターン化層
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-587210
公開番号（公開出願番号）：特表2002-532732
出願日： 1999年12月06日
公開日（公表日）： 2002年10月02日
要約：
【要約】本発明は、コレステリック配列を有するポリマー物質のパターン化された層を製造する方法に関しており、本発明では、その物質を、コレステリック配列した物質の分子ヘリックスの軸がその層を横断する方向に延びるように配向させ、及び、本発明では、この層がパターン化されており、この層が少なくとも1つの領域を含み、その領域では、分子ヘリックスのピッチが他の領域のものと異なっている。本発明の方法は、次のステップを含む:a)所与量の変換し得る化合物を含むコレステリック配列した物質の層を設け、前記変換し得る化合物がその変換されてない状態及び変換されている状態でコレステリック配列した物質のピッチを異なった範囲に決定しており、その際、前記化合物の変換を放射によって誘導することができ、b)前記層を所望のパターンに従って照射し、前記層の照射された部分中の少なくとも一部の前記変換し得る化合物が変換され、c)前記コレステリック配列した物質を重合及び/又は架橋して3次元ポリマーを形成する。この変換し得る化合物は、異性化し得る、キラル化合物が好ましい。重合及び/又は架橋は、電子ビーム放射又は化学線放射により誘導されるのが好ましい。
請求項（抜粋）：
コレステリック配列を有するポリマー材料のパターン化層を製造する方法であって、該層中、該コレステリック配列したポリマー材料の分子ヘリックス軸が該層を横断する方向に延びるようにポリマー材料が配向され、かつ該層がパターン化され分子ヘリックスのピッチが他の領域の分子ヘリックスのピッチと異なる領域を少なくとも有し、該方法は、a.所与量の変換化合物を含むコレステリック配列した材料層を設け、該変換化合物は、照射によってその変換が誘起可能とされ、その非変換状態及びその変換状態でコレステリック配列した材料のピッチを異ならせ、b.所望のパターンに従って該層を照射して、層の照射部分における変換化合物の少なくとも一部を変換させ、c.コレステリック配列した材料を重合および/または架橋して3次元ポリマーを形成することからなるコレステリック配列を有するポリマー材料のパターン層を製造する方法。
IPC (4件)：
G02B 5/30
, C08F 2/00
, G02B 5/20
, G02B 5/20 101
G02B 5/30
, C08F 2/00 C
, G02B 5/20
, G02B 5/20 101
2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB08
, 2H049BA02
, 2H049BA05
, 2H049BA06
, 2H049BA42
, 2H049BB01
, 2H049BB03
, 2H049BB42
, 2H049BB63
, 2H049BC05
, 2H049BC08
, 2H049BC22
, 4J011CA02
, 4J011CA08
, 4J011CC10
