特許

J-GLOBAL ID：200903061936519150

光反応液体処理装置

発明者： 都築 浩一 ,  田中 哲也 ,  半田 文隆 ,  仲平 四郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-250947
公開番号（公開出願番号）：特開平11-090461
出願日： 1997年09月16日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：

【要約】【課題】装置内における光のエネルギーロスを十分に小さくし、消費エネルギーを十分に低減できる光反応液体処理装置を提供する。【解決手段】被処理液体1を処理する処理容器2と、この処理容器2内に光源3からの光を導入する光導入窓4と、処理容器2内に酸素を含む気体を導入する気体導入装置5とを備え、被処理液体1中で光酸化反応を行わせるようになっている。またこの光反応液体処理装置は、処理容器2内の被処理液体1の自由液面1aより下方に、気体導入装置5から導入された気体の気泡が主として存在する気泡領域6が形成されるとともに、光導入窓4から導入された光が照射され、主として光酸化反応が行われる反応領域8が形成されている。そして、これら気泡領域6及び反応領域8の境界には、気泡領域6と反応領域8との境界の大部分を仕切る仕切壁9が設けられている。

請求項（抜粋）：

液体を処理する処理容器と、この処理容器内に光源からの光を導入する光導入手段と、前記処理容器内に酸素を含む気体を導入する気体導入手段とを備え、前記被処理液体中で光酸化反応を行わせる光反応液体処理装置において、前記処理容器内の前記被処理液体の自由液面より下方に、前記気体導入手段から導入された気体の気泡が主として存在する気泡領域と、前記光導入手段から導入された光が照射され、主として前記光酸化反応が行われる反応領域とを設けたことを特徴とする光反応液体処理装置。

IPC (2件)：

C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ZAB

FI (2件)：

C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ZAB