プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-008200
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198388
出願日： 1992年01月21日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】マイクロ波および空洞共振器を用いたプラズマ処理装置において、空洞共振器の共振姿態を単一化することにより均一なプラズマ処理を可能とする。【構成】マイクロ波発生源5、空洞共振器7、処理室1、処理室1と空洞共振器7を電磁的に結合する結合孔8、処理室1を処理に適した圧力に保ちつつ、マイクロ波を空洞共振器7から処理室1に導入するための誘電体部品10、処理室1内に設置された被処理基板2、処理室1に処理ガスを導入するためのガス導入系、処理室1を処理に適した圧力に保つための真空排気系からなるプラズマ処理装置において、空洞共振器内の共振姿態を単一にするためのモードフィルタ9を空洞共振器7内に設置したことを特徴とするプラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

マイクロ波発生源、空洞共振器、処理室、処理室と空洞共振器を電磁的に結合する結合孔、処理室を処理に適した圧力に保ちつつ、マイクロ波を空洞共振器から処理室に導入するための誘電体部品、処理室内に設置された被処理基板、処理室に処理ガスを導入するためのガス導入系、処理室を処理に適した圧力に保つための真空排気系からなるプラズマ処理装置において、空洞共振器内の共振姿態を単一にするためのモードフィルタを空洞共振器内に設置したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H05H 1/46 , B01J 19/10 , C23C 14/34 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/302 , H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (3件)

特公昭55-025282
特開平1-260124
特公平3-048363

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