特許

J-GLOBAL ID：200903061939044110

反射マスク、露光装置および集積回路の製造方法

発明者： 村上 勝彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231393
公開番号（公開出願番号）：特開2001-057328
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、反射マスクの反射率のムラが生じることによって、ウェハー上に転写される回路パターンの線幅に影響を及ぼさないようすにすることを提供するを目的とする。【解決手段】 本発明では、基板上に所定の波長の軟X線を反射する多層膜2と、所定の回路パターン形状を有する吸収体層3とが形成されてなる反射マスクにおいて、多層膜2は積層方向に周期長が一定ではなく異なっていることとした。

請求項（抜粋）：

基板上に所定の波長の軟X線を反射する多層膜と、所定の回路パターン形状を有する吸収体層とが形成されてなる反射マスクにおいて、前記多層膜は、積層方向に周期長が一定ではなく異なっていることを特徴とする反射マスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503

FI (4件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 531 A

Fターム (17件)：

2H095BA10 ,  2H095BB10 ,  2H095BB16 ,  2H095BB25 ,  2H095BC24 ,  2H097CA15 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GA06 ,  5F046GA07 ,  5F046GA12 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03 ,  5F046GD04 ,  5F046GD10 ,  5F046GD16