特許
J-GLOBAL ID：200903061943456393
粒度分布解析方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-295818
公開番号（公開出願番号）：特開平8-136434
出願日： 1994年11月05日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】 大容量の記憶装置などを用いなくても、相対屈折率の影響を補正することができる粒度分布解析方法を提供すること。【構成】 分散した試料粒子に光を照射することによって生ずる回折光または散乱光の強度分布を複数のセンサ素子17aからなるディテクタ17で測定し、測定した強度分布のデータからフラウンホーファ回折またはミー散乱理論に基づいて前記試料粒子の粒度分布を求める粒度分布解析方法において、相対屈折率毎にセンサ素子17aによって得られる散乱光強度を補正し、これに基づいて前記散乱光強度を粒度分布に変換するようにした。
請求項（抜粋）：
分散した試料粒子に光を照射することによって生ずる回折光または散乱光の強度分布を複数のセンサ素子からなるディテクタで測定し、測定した強度分布のデータからフラウンホーファ回折またはミー散乱理論に基づいて前記試料粒子の粒度分布を求める粒度分布解析方法において、相対屈折率毎にセンサ素子によって得られる散乱光強度を補正し、これに基づいて前記散乱光強度を粒度分布に変換するようにしたことを特徴とする粒度分布解析方法。
引用特許：
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