特許

J-GLOBAL ID：200903061960035563

投影露光方法及び投影露光装置

発明者： 小沼 修
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-262431
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077321
出願日： 1998年08月31日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：

【要約】【課題】 照明光変形手段によって変更される照明モード毎に変化する像面歪、あるいは露光環境、露光履歴等によって生じる像面歪を補正し、焦点深度の大きい安定した結像を提供する投影露光方法及び投影露光装置を得ること。【解決手段】 照明系でレチクルを照明してレチクル上に形成されたパターンを投影光学系で感光基板上に露光転写する際、前記照明系に内蔵された照明光変形手段により投影光学系の瞳面上に形成する光の強度分布を変えた際、照明光の変形状態毎にレチクル変形手段によりレチクルを歪ませて転写パターンの像面歪を補正することを特徴とする投影露光方法及び投影露光装置。

請求項（抜粋）：

半導体素子を製造する投影露光装置において、前記投影露光装置がレチクルを照明する照明系、前記レチクル上に形成されたパターンを感光基板上に露光転写する投影光学系、前記照明系が前記投影光学系の瞳面上に形成する光の強度分布を変形させる照明光変形手段、及び前記レチクルを歪ませるレチクル変形手段を有することを特徴する投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 527

Fターム (5件)：

5F046AA25 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05