特許
J-GLOBAL ID：200903061971748626
電子ビーム露光方法および電子ビーム露光装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-305069
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144912
出願日： 1991年11月20日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 高集積度のICパターンの露光に適した電子ビーム露光技術に関し、波形整定の遅れを低減することのできる電子ビーム露光方法を提供することを目的とする。【構成】 パターンを描画する位置を表わすデジタル信号を変換手段に与えてアナログ信号を形成し、このアナログ信号を偏向信号として偏向器に印加して電子ビームを偏向し、パターン描画を行なう電子ビーム露光方法であって、前記アナログ信号が変化する遷移期間に現実に前記変換手段が出力する信号波形の所望の信号波形に対する偏差に対応する補正アナログ信号を形成し、前記アナログ信号に加算するように構成する。
請求項（抜粋）：
パターンを描画する位置を表わすデジタル信号を変換手段に与えてアナログ信号を形成し、このアナログ信号を偏向信号として偏向器に印加して電子ビームを偏向し、パターン描画を行なう電子ビーム露光方法であって、前記アナログ信号が変化する遷移期間に現実に前記変換手段が出力する信号波形の所望の信号波形に対する偏差に対応する補正アナログ信号を形成し、前記アナログ信号に加算することを特徴とする電子ビーム露光方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
