特許
J-GLOBAL ID：200903061986811642
ガス発生地盤におけるガス抜き構造及びガス抜き方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 朔生 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-088852
公開番号（公開出願番号）：特開平9-248539
出願日： 1996年03月18日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：
【要約】【課題】 本発明の課題は、廃棄物埋立層等で発生するガスを効果的に処理し、有毒ガスや悪臭の問題を解消できる、ガス発生地盤におけるガス抜き構造及びガス抜き方法を提供することである。【解決手段】 上記課題を解決するための手段として、廃棄物埋立地などのガス発生地盤の表層部に通気層を形成し、この通気層の表面を気密性シ-トで被覆し、かつ通気層内に、発生したガスを収集して所定の処理場に送る集気管を配置したことを特徴とする、ガス発生地盤のガス抜き構造及びその構造によるガス抜き方法を提供する。また、上記ガス抜き構造において、下端が前記ガス発生地盤の下方の支持層まで到達する構造物基礎杭の上端部全周を、上下方向に伸縮する気密性伸縮部材で被覆し、ガス発生地盤の沈下に追従して前記伸縮部材を伸長させ、前記基礎杭上端部の気密性を維持させてガス漏れを防止できるよう構成したことを特徴とする、ガス発生地盤のガス抜き構造及びその構造によるガス抜き方法を提供する。
請求項（抜粋）：
廃棄物埋立地などのガス発生地盤の表層部に通気層を形成し、 この通気層の表面を気密性シ-トで被覆し、かつ通気層内に、発生したガスを収集して所定の処理場に送る集気管を配置したことを特徴とする、ガス発生地盤のガス抜き構造。
引用特許：
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