特許
J-GLOBAL ID：200903061989737257

新規チオール化合物、共重合体及び共重合体の製造方法

発明者：
山岸 孝則

山岸 孝則 について

, 
三田 孝仁

三田 孝仁 について


出願人/特許権者：
丸善石油化学株式会社

丸善石油化学株式会社 について


代理人 (1件)： 小林 雅人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-013879
公開番号（公開出願番号）：特開2004-292428
出願日： 2004年01月22日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】 従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。【解決手段】 本発明の新規チオール化合物は、式(1) 【化1】(式中、R1は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素からなる2価の置換基を表す。)で表されることを特徴とするものである。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
式(1)
IPC (3件)：
C07C323/12 ,  C07C323/17 ,  C08F2/38
FI (3件)：
C07C323/12 ,  C07C323/17 ,  C08F2/38
Fターム (10件)：
4H006AA01 ,  4H006AB40 ,  4H006TA04 ,  4H006TB31 ,  4J011AA05 ,  4J011CA02 ,  4J011CA08 ,  4J011CC04 ,  4J011NA25 ,  4J011NB04
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (4件)
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