特許
J-GLOBAL ID：200903061990860844
光学材料用重合組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
寺田 實
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-180422
公開番号（公開出願番号）：特開平7-033834
出願日： 1993年07月21日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 屈折率が高くしかも耐衝撃性の優れた光学材料として好適な有機ガラスを提供する。【構成】 (1)下記不飽和二塩基酸系オリゴマー 30〜70重量部RO(COCH=CHCOOR'O)nCOCH=CHCOOR(2)ROCOCH=CHCOOR 0〜30重量部(ただし、(1)、(2)中R’は芳香族炭化水素を有するジオールから誘導された2価の有機残基であって、Rは炭素数が水素または1から8の不飽和または不飽和アルキル基を表わす。nは1〜20の数を示す。)(3)安息香酸アリル、2-、3-、4-フェニル安息香酸アリルの1種 10〜50重量部。(4)ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ビニルベンゾエート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルフタレートモノマー、1,2-、1,3-、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアリルモノマー、ジエチレングリコールジアリルカーボネートの1種 0〜50重量部からなる光学材料用重合組成物。
請求項（抜粋）：
(1)下記不飽和二塩基酸系オリゴマー 30〜70重量部RO(COCH=CHCOOR'O)nCOCH=CHCOOR(2)ROCOCH=CHCOOR 0〜30重量部(上記(1)及び(2)中、R’は芳香族炭化水素を有するジオールから誘導された2価の有機残基を表わし、Rは炭素数が水素または1から8の不飽和または不飽和アルキル基を表わす。nは1〜20の数を示す。)(3)安息香酸アリル、2-、3-および4-フェニル安息香酸アリルの少なくとも1種 10〜50重量部(4)ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ビニルベンゾエート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルフタレートモノマー、1,2-、1,3-および1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアリルモノマーおよびジエチレングリコールジアリルカーボネートの少なくとも1種0〜50重量部から本質的になることを特徴とする光学材料用重合組成物。
IPC (2件)：
C08F283/01 MSP
, G02B 1/04
