特許
J-GLOBAL ID：200903062001052455
組織切片培養用基盤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-321535
公開番号（公開出願番号）：特開平7-170971
出願日： 1993年12月21日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：
【要約】【目的】 組織切片の接着性が高く、組織切片を液相と気相の界面に容易におくことが可能な組織切片培養用基盤を得る。【構成】 石英ガラスに1μm厚のネガティブフォトセンシティブポリイミド(NPI)をスピンコートした絶縁基盤と、その上に設けられた厚さ10μm以上300μm以下のコラーゲンゲル層からなる。組織切片をより生体内の環境に近い状態で培養することができ、組織切片の基盤上への定着性に優れた組織培養用基盤となる。
請求項（抜粋）：
絶縁基盤とその上に設けられたコラーゲンゲル層からなる組織切片培養用基盤。
IPC (2件)：
引用特許：
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