特許

J-GLOBAL ID：200903062004660340

プラズマ化学蒸着装置

発明者： 久留 正敏 ,  堀岡 竜治 ,  小鍛冶 聡司 ,  山越 英男 ,  縄田 芳一
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-275895
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121381
出願日： 1997年10月08日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：

【要約】【課題】プラズマの不均一性を改善して均一な薄膜を形成する。【解決手段】真空容器と、この真空容器内に原料ガスを導入し、排出する手段と、前記真空容器内に配置され、基板を支持するとともに基板を加熱する支持兼加熱部材と、前記真空容器内に配置された高周波放電電極とを具備したプラズマ化学蒸着装置において、前記高周波放電電極26はパイプ状の電極棒31をはしご状に配置したもので、前記電極棒31の基板側にガス吹き出し穴32を設けた構成であることを特徴とするプラズマ化学蒸着装置。

請求項（抜粋）：

真空容器と、この真空容器内に原料ガスを導入し、排出する手段と、前記真空容器内に配置され、被処理物を支持するとともに被処理物を加熱する支持兼加熱部材と、前記真空容器内に配置された高周波放電電極とを具備したプラズマ化学蒸着装置において、前記高周波放電電極はパイプ状の電極棒をはしご状あるいは網目状に配置したもので、前記電極棒の被処理物側にガス吹き出し穴を設けた構成であることを特徴とするプラズマ化学蒸着装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  H01L 31/04 B