特許
J-GLOBAL ID:200903062004681399
投影露光装置およびそれを用いた露光方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
深見 久郎 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-198889
公開番号(公開出願番号):特開2000-031024
出願日: 1998年07月14日
公開日(公表日): 2000年01月28日
要約:
【要約】【課題】 光学部材の自重による収差の発生を抑制することで、高精度かつ微細なパターンを形成可能な投影露光装置およびそれを用いた露光方法を提供する。【解決手段】 投影露光装置の投影光学系10は、鏡筒1と、その鏡筒1内に配置された複数のレンズ2a〜2eと、そのレンズ2a〜2eによって仕切られた鏡筒の内部空間1a〜1dの各々に連通する圧力調整装置3a〜3dとを有している。圧力調整装置3a〜3dは、レンズ自重を打ち消すように各内部空間1a〜1dの圧力を調整する。
請求項(抜粋):
パターンが形成されたマスクにエネルギー線を照射し、前記パターンの像を投影光学系を介して感光体に露光する投影露光装置であって、前記パターンの像が内部を通過する筒状部材と、前記筒状部材の内部の第1および第2の空間を気密状態に維持したまま仕切るように前記筒状部材の内部に保持された光学部材と、前記光学部材に作用する重力と実質的に同一の力が前記重力と逆方向に前記光学部材に作用するように前記第1および第2の空間の双方の圧力を調整する圧力調整手段とを備えた、投影露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 516 F
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
Fターム (3件):
5F046CB12
, 5F046CB20
, 5F046DA13
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