特許

J-GLOBAL ID：200903062011815325

無電解錫めっき浴

発明者： 大楠 哲司 ,  川本 昌
出願人/特許権者： ユケン工業株式会社
代理人 (1件)： 飯田 堅太郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-040976
公開番号（公開出願番号）：特開平8-239767
出願日： 1995年02月28日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【目的】水酸化アルカリと第一錫塩とを含有し、多価アルコール及び/又はアミノカルボン酸類が添加されている水溶液であって、不均化反応めっきに使用される無電解錫めっき浴において、錫析出速度をほとんど低減させずに、より微細な錫析出が可能な無電解錫めっき浴を提供すること。【構成】水酸化アルカリと第一錫塩とを含有し、多価アルコール及び/又はアミノカルボン酸類が添加されている水溶液であって、不均化反応めっきに使用される無電解錫めっき浴。浴中に錫結晶微細化剤を添加する。

請求項（抜粋）：

水酸化アルカリと第一錫塩とを含有し、多価アルコール及び/又はアミノカルボン酸類が添加されている水溶液であって、不均化反応めっきに使用される無電解錫めっき浴において、前記浴中に錫結晶微細化剤を添加したことを特徴とする無電解錫めっき浴。