特許

J-GLOBAL ID：200903062012203277

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品

発明者： 土川 信次 ,  鍛治 誠 ,  上田 充 ,  武志 一正 ,  奥山 健一
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-083493
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275842
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】 感度、解像度及び耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物、前記組成物の使用により、感度、解像度及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法並びに良好な形状と特性のパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。【解決手段】 一般式(1)【化1】(式中、R1は、ハロゲン原子又は炭素数1〜9のアルキル基を示し、複数ある場合は、各々同一でも異なっていてもよく、xは0〜3の整数である)で表される繰り返し単位を有するポリフェニレンオキシド(A)と、光により酸を発生する化合物(B)を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、この感光性重合体組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、アルカリ水溶液を用いて現像する工程を含むパターンの製造法及びこの製造法により得られるパターンを表面保護膜又は層間絶縁膜として有してなる電子部品。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、R1は、ハロゲン原子又は炭素数1〜9のアルキル基を示し、複数ある場合は、各々同一でも異なっていてもよく、xは0〜3の整数である)で表される繰り返し単位を有するポリフェニレンオキシド(A)と、光により酸を発生する化合物(B)を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (13件)：

2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB19 ,  2H025CB45 ,  2H025DA01 ,  2H025DA02 ,  2H025DA40 ,  2H025EA04 ,  2H025FA17