特許

J-GLOBAL ID：200903062012779470

被処理ガス中のガス成分処理方法

発明者： 山田 陸雄 ,  村上 和美 ,  佐藤 一教 ,  植田 昭雄 ,  上田 俊之
出願人/特許権者： バブコック日立株式会社
代理人 (1件)： 鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-126828
公開番号（公開出願番号）：特開平10-314537
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】【課題】 ユーティリティーの大部分を占めるスチームを無くすか、大幅に少なくする。【解決手段】 硫化水素や二酸化炭素のガス成分を含む被処理ガスGを吸収塔102で化学吸収と物理吸収に基づく吸収液と接触させ、該ガス成分を常圧乃至70kgf/cm2の吸収圧力で吸収させて前記ガス成分を豊富に含む溶液とし、該溶液を加圧した後、再生塔110の温度40乃至70°Cの雰囲気中に噴射して該溶液から前記ガス成分を放出させ、前記ガス成分に乏しい溶液とし、該ガス成分に乏しい溶液を前記吸収液として吸収塔102に再循環させる。

請求項（抜粋）：

硫黄、炭素元素の少なくとも一つを有し除去、回収されるべきガス成分を含む被処理ガスを、前記ガス成分を吸収する吸収液と接触させ、該ガス成分を豊富に含む溶液とし、該溶液を加圧した後、噴射して該溶液から前記ガス成分を放出させて除去、回収し、前記溶液をガス成分に乏しい溶液とし、該ガス成分に乏しい溶液を前記吸収液として再循環させることを特徴とする被処理ガス中のガス成分処理方法。

IPC (5件)：

B01D 53/14 ,  B01D 53/14 102 ,  B01D 53/52 ,  B01D 53/62 ,  C10K 1/10

FI (5件)：

B01D 53/14 C ,  B01D 53/14 102 ,  C10K 1/10 ,  B01D 53/34 126 ,  B01D 53/34 135 Z