特許
J-GLOBAL ID:200903062024856403

保護被膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 宮崎 昭夫 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-096005
公開番号(公開出願番号):特開2005-279416
出願日: 2004年03月29日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
【課題】耐擦傷性に優れた無機系の透明な保護被膜を短時間で形成できる方法を提供する。【解決手段】アルコキシシリル基を分子内に有するシロキサン化合物(A)と、活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤(B)とを含有する組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して保護被膜を形成する方法において、活性エネルギー線照射の前に予備加熱を行うことを特徴とする保護被膜形成方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
アルコキシシリル基を分子内に有するシロキサン化合物(A)と、活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤(B)とを含有する組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して保護被膜を形成する方法において、 活性エネルギー線照射の前に予備加熱を行うことを特徴とする保護被膜形成方法。
IPC (4件):
B05D7/24 ,  B05D3/06 ,  C09D183/02 ,  C09D183/06
FI (4件):
B05D7/24 302Y ,  B05D3/06 C ,  C09D183/02 ,  C09D183/06
Fターム (16件):
4D075BB21Z ,  4D075BB41Z ,  4D075CA02 ,  4D075CB06 ,  4D075DA06 ,  4D075DB31 ,  4D075DB43 ,  4D075DB48 ,  4D075EB22 ,  4D075EB42 ,  4J038DL051 ,  4J038KA03 ,  4J038KA04 ,  4J038NA01 ,  4J038NA11 ,  4J038PA17
引用特許:
出願人引用 (3件)

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