特許

J-GLOBAL ID：200903062032258132

抵抗器およびその製造方法

発明者： 五十嵐 幸造 ,  西脇 英謙 ,  阪本 克治 ,  進藤 ▲泰▼宏 ,  横田 康彦
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-211965
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063803
出願日： 1995年08月21日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【目的】 本発明は外的要因からの影響が受けづらいとともに、量産性に優れた抵抗器およびその製造方法を提供するものである。【構成】 絶縁基体1の表面に第1・第2の酸化金属皮膜2・3をこの順に備え、第1の酸化金属皮膜2より比抵抗が大きい第2の酸化金属皮膜3を設けることにより、外的要因からの影響が受けづらいとともに、量産性に優れた抵抗器およびその製造方法を提供できる。

請求項（抜粋）：

絶縁基体と、この絶縁基体の表面に設けた第1の酸化金属皮膜と、この第1の酸化金属皮膜の表面に前記第1の酸化金属皮膜より比抵抗値が大きい第2の酸化金属皮膜を設けてなる抵抗器。

IPC (3件)：

H01C 7/00 ,  H01C 17/06 ,  H01C 17/20

FI (3件)：

H01C 7/00 A ,  H01C 17/06 M ,  H01C 17/20