特許

J-GLOBAL ID：200903062034986216

文字パターンの発生方法及び装置

発明者： 瀬戸 邦雄
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-320669
公開番号（公開出願番号）：特開平6-167963
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】 メモリ容量を少なくして大量のフォントデータを記憶できる文字パターンの発生方法及び装置を提供することを目的とする。また、本発明の他の目的は、文字パターンへの展開速度を高めることができる文字パターンの発生方法及び装置を提供することにある。【構成】 文字パターンを構成する共通のエレメントを表現するエレメント情報と、個々の文字に対してエレメントの構成情報をフォントデータROM1に記憶しておき、指示された文字に対応するこれらエレメント情報のそれぞれをビットマップに展開して展開エリア2に記憶する。こうして展開されたビットマップデータをその構成情報に従って合成して文字パターン情報を作成する。

請求項（抜粋）：

文字パターンを構成する共通の図形要素を表現する図形情報と、個々の文字に対して前記図形要素の構成情報を記憶する記憶手段と、前記図形情報のそれぞれをビットマップに展開する展開手段と、前記展開手段により展開されたビットマップデータを前記構成情報に従って合成して文字パターン情報を作成する作成手段と、を有することを特徴とする文字パターンの発生装置。

IPC (3件)：

G09G 5/24 ,  G06F 3/153 310 ,  G06F 15/72 355

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-194585
  
• 特開平4-184393
  
• 特開平4-161985